离子束刻蚀辅助飞秒激光加工技术。基本原理是利用低能量的飞秒激光脉冲快速在材料表面诱导形成平滑的“种子”改性区，由于脉冲能量的沉积使得改性区具有更高的物理化学活性，从而具有更高的刻蚀速率。随后利用离子束刻蚀实现改性区的优先快速去除并利用离子轰击方向对刻蚀速率的影响实现结构的成型与表面平滑。他们以微透镜阵列的制备为例，验证了该技术的原理及其在多种材料上的加工应用。通过调节激光加工参数和刻蚀工艺实现了微透镜形貌和参数的调控，其表面粗糙度仅有2.5 nm。另外，由于飞秒激光加工和离子束刻蚀对材料的无选择性，使得其可以用于加工几乎任何材料。实验中验证了该技术在石英玻璃、砷化镓、碳化硅和金刚石材料上实现微透镜阵列的制备，并展现了良好的光学成像和聚焦效果。